设备名称 Equipment Name

管式等离子体氧化铝淀积炉  Horizontal PECVD (AlO_x ) 

设备型号 Equipment Model

PD-520

设备用途 Equipment Application

本设备主要用于在硅片背面通过N₂O和TMA淀积氧化铝钝化介质膜，提高电压和电流，再在氧化铝膜表面淀积氮化硅保护膜。

Deposit AlOx passivition dielectric film on the rear side of wafers using N2O and TMA gas to increase voltage and current of the solar cell and then deposit SixNy protective film on the surface of the AlOx film.

工艺流程 Process Flow

石墨舟及硅片准备——管内充氮气——进舟——抽真空、压力测试——淀积氧化铝复合膜——抽真空、压力测试——清管路、充氮气——退舟

graphite boat & wafers ready→ Nitrogen inlet→ graphite boat load in→ vacuumize, pressure test → deposit AlOx film→ vacuumize, pressure test→ tube cleaning and Nitrogen inlet→ graphite boat unload 

技术特点  Features

1、氧化铝、氮氧化硅、氮化硅复合膜PERC技术。
AlOx, SiOxNy and SiNx complex layers.  

2、兼容氮化硅、氮氧化硅PERC技术。
Compatible with SiNx and SiOxNy PERC process. 

3、双水冷密封技术。
Double water-cooled sealing technology .

4、专利内加热技术。
Patented internal heating technology.

5、高速平稳整体模组推舟机构。
High-speed integral module boat pushing mechanism.

6、悬浮承载舟技术。
Graphite boat contact-free with quartz tube.

7、自主知识产权MES软件。
MES software with independent intellectual property right.

8、自主开发中央计算机集中控制系统。
Independently developed CCC system.

9、快速镀膜技术。
Fast coating technology.

10、全面的防超温、断偶、撞舟等安全报警保护功能。
Alarm protection for over-heating, thermocouple -break and boat collision.

设备参数  Parameters